Tato práce se zabývá přípravou a charakterizací amorfních ultratenkých vrstev oxidu hlinitého (Al2O3) deponovaných pomocí elektronového svazku (EB-PVD). Sleduje topografii, složení a optické vlastnosti připravených tenkých vrstev v závislosti na jejich tloušťce a depozičních podmínkách s cílem nalézt co nejtenčí kontinuální vrstvu Al2O3. Zejména byl sledován vliv rychlosti depozice a prostředí v depoziční komoře (přítomnost či nepřítomnost O2). Povrchová hrubost připravených vrstev Al2O3 byla sledována pomocí AFM (atomic force microscopy). Topografie deponovaných vrstev byla studována skenovací elektronovou mikroskopií. Chemické složení vrstev bylo stanoveno pomocí SEM-EDX (scanning electron microscopy-energy dispersive X-ray spectroscopy). Optické vlastnosti (index lomu, extinkční koeficient), tloušťky a procentuální zastoupení dutin v těchto vrstvách byly určeny analýzou elipsometrických dat. Amorfní charakter připravených vrstev Al2O3 byl potvrzen pomocí XRD (X-ray diffraction).
