Příprava a charakterizace tenkých vrstev Al2O3

Zobrazit minimální záznam

dc.contributor.advisor Němec, Petr
dc.contributor.author Karhánek, Milan
dc.date.accessioned 2016-06-09T12:44:26Z
dc.date.available 2016-06-09T12:44:26Z
dc.date.issued 2016
dc.date.submitted 2016-05-13
dc.identifier Univerzitní knihovna (studovna)
dc.identifier.uri http://hdl.handle.net/10195/64640
dc.description.abstract Tato práce se zabývá přípravou a charakterizací amorfních ultratenkých vrstev oxidu hlinitého (Al2O3) deponovaných pomocí elektronového svazku (EB-PVD). Sleduje topografii, složení a optické vlastnosti připravených tenkých vrstev v závislosti na jejich tloušťce a depozičních podmínkách s cílem nalézt co nejtenčí kontinuální vrstvu Al2O3. Zejména byl sledován vliv rychlosti depozice a prostředí v depoziční komoře (přítomnost či nepřítomnost O2). Povrchová hrubost připravených vrstev Al2O3 byla sledována pomocí AFM (atomic force microscopy). Topografie deponovaných vrstev byla studována skenovací elektronovou mikroskopií. Chemické složení vrstev bylo stanoveno pomocí SEM-EDX (scanning electron microscopy-energy dispersive X-ray spectroscopy). Optické vlastnosti (index lomu, extinkční koeficient), tloušťky a procentuální zastoupení dutin v těchto vrstvách byly určeny analýzou elipsometrických dat. Amorfní charakter připravených vrstev Al2O3 byl potvrzen pomocí XRD (X-ray diffraction). cze
dc.format 81 s.
dc.format.extent 3789706 bytes
dc.format.mimetype application/pdf
dc.language.iso cze
dc.publisher Univerzita Pardubice cze
dc.rights pouze v rámci univerzity. cze
dc.subject tenké vrstvy cze
dc.subject oxid hlinitý cze
dc.subject EB-PVD cze
dc.subject amorfní vrstvy cze
dc.subject thin films eng
dc.subject alumina eng
dc.subject EB-PVD eng
dc.subject amorphous films eng
dc.title Příprava a charakterizace tenkých vrstev Al2O3 cze
dc.title.alternative Preparation and characterization of Al2O3 thin films eng
dc.type diplomová práce cze
dc.contributor.referee Schwarz, Jiří
dc.date.accepted 2016-06-07
dc.description.abstract-translated This work deals with the fabrication and characterization of ultra thin films of amorphous alumina (Al2O3) which were prepared using electron beam deposition (EB-PVD). Topography, composition and optical properties of fabricated thin films were investigated depending on their thickness and deposition conditions aimed to find the thinnest continuous film of Al2O3. The influence of deposition rate under vacuum or background gas environment (O2) was studied. The surface roughness of Al2O3 thin films was investigated by AFM (atomic force microscopy). The topography of deposited layers was studied by scanning electron microscopy. The chemical composition of the films was determined via SEM-EDX (scanning electron microscopy-energy dispersive X-ray spectroscopy). Optical properties (refractive index, extinction coefficient), thicknesses and the percentage of voids in the films were evaluated through the analysis of ellipsometric data. Amorphous character of fabricated Al2O3 films was confirmed by XRD (X-ray diffraction). eng
dc.description.department Fakulta chemicko-technologická cze
dc.thesis.degree-discipline Polygrafie cze
dc.thesis.degree-name Ing.
dc.thesis.degree-grantor Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická cze
dc.identifier.signature D34470
dc.thesis.degree-program Polygrafie cze
dc.identifier.stag 30885
dc.description.grade Dokončená práce s úspěšnou obhajobou cze


Tento záznam se objevuje v následujících kolekcích

Zobrazit minimální záznam

Vyhledávání


Rozšířené hledání

Procházet

Můj účet