Vyžádat si kopii souboru

Zadejte následující informace, abyste si vyžádali kopii následující záznamy: Preparation of wafer-scale highly conformalamorphous hafnium dioxide thin films by atomic layer deposition using a thermally stable boratabenzene ligand-containing hafnium precursor

Žádám o kopii následujícího souboru: janicek_ALD_HFOx_OBD.pdf