Cyclic Silylselenides: Convenient Selenium Precursors for Atomic Layer Deposition
ČlánekOmezený přístuppeer-reviewedpublished versionDatum publikování
2020
Vedoucí práce
Oponent
Název časopisu
Název svazku
Vydavatel
Wiley-VCH
Abstrakt
Three cyclic silylselenides were prepared in a straightforward manner. Property tuning has been achieved by varying the ring size and the number of embedded selenium atoms. All silylselenides possess improved resistance towards moisture and oxidation as well as high thermal robustness and sufficient volatility with almost zero residues. The six-membered diselenide proved to be particularly superior Se precursors for atomic layer deposition and allowed facile preparation of MoSe2 layers. Their structure and composition have been investigated by Raman and X-ray photoelectron spectroscopy as well as scanning electron microscopy revealing vertically aligned flaky shaped nanosheets.
Rozsah stran
p. 576-579
ISSN
2192-6506
Trvalý odkaz na tento záznam
Projekt
Zdrojový dokument
ChemPlusChem, volume 85, issue: 3
Vydavatelská verze
https://chemistry-europe.onlinelibrary.wiley.com/doi/epdf/10.1002/cplu.202000108
Přístup k e-verzi
pouze v rámci univerzity
Název akce
ISBN
Studijní obor
Studijní program
Signatura tištěné verze
Umístění tištěné verze
Přístup k tištěné verzi
Klíčová slova
atomic layer deposition, molybdenum, nanostructures, selenium, transition metal dichalcogenides, cyklické silylselenidy, nanostruktury, molybden, selen, depozice atomových vrstev