Tato diplomová práce se zabývá technologií depozice atomárních vrstev (ALD), jejími principy, a především ALD prekurzory. Literární rešerše nejprve popisuje obecné vlastnosti ALD a dále se konkrétněji zaměřuje na dnes nejčastěji používané typy prekurzorů. V poslední části literární rešerše jsou pak popsány dostupné prekurzory selenu, jejich syntéza
a případné využití při nanášení nanovrstev. Cílem experimentální části bylo připravit celkem osm molekul z toho čtyři alkylsilylselenidy a čtyři alkylstanylselenidy jako potenciální ALD prekurzory. Struktura a čistota všech připravených látek byla potvrzena pomocí NMR spektroskopie, GC/MS analýz a bodů varů. Pro zjištění tepelné stability byla provedena také DSC analýza. Na závěr jsou získané údaje kriticky zhodnoceny a diskutovány a byly vyvozeny základní vztahy typu struktura-vlastnosti.
