Publikace: Studium procesu plazmochemické depozice vrstev SiO2 na křemíkových deskách
Diplomová práce| dc.contributor.advisor | Valíček, Jaromír | cze |
| dc.contributor.author | Bachan, David | |
| dc.contributor.referee | cze | |
| dc.date.accepted | 2003 | cze |
| dc.date.accessioned | 2007-09-30T12:05:42Z | |
| dc.date.available | 2007-09-30T12:05:42Z | |
| dc.date.issued | 2003 | |
| dc.description.abstract | Práce se zabývá studiem procesu plazmochemické depozice vrstev SiO2 na křemíkových deskách. Byly prozkoumány závislosti indexu lomu, rychlosti a rovnoměrnosti depozice vrstvy SiO2 na teplotě, tlaku, příkonu, průtoku O2 a průtoku He do TEOS při depozici. Dále byly prozkoumány závislosti velikosti a znaménka pnutí, účinnosti krytí schodků v tenkovrstvových AlCuSi vodičích 1. úrovně metalizace vrstvou SiO2 a rychlost rozpouštění vrstvy SiO2 v pufrované HF na teplotě a tlaku při depozici. | cze |
| dc.description.abstract-translated | cze | |
| dc.description.department | cze | |
| dc.description.grade | Dokončená práce s úspěšnou obhajobou | cze |
| dc.format | 62 s. | cze |
| dc.format.extent | cze | |
| dc.format.mimetype | cze | |
| dc.identifier | Univerzitní knihovna (sklad) | cze |
| dc.identifier.signature | D12353 | cze |
| dc.identifier.uri | https://hdl.handle.net/10195/17654 | |
| dc.language.iso | cze | |
| dc.publisher | Univerzita Pardubice | cze |
| dc.rights | cze | |
| dc.subject | plazmochemie | cze |
| dc.subject | křemíkové desky | cze |
| dc.subject | vrstvy | cze |
| dc.subject | oxid křemičitý | cze |
| dc.thesis.degree-discipline | anorganická a bioanorganická chemie | cze |
| dc.thesis.degree-grantor | cze | |
| dc.thesis.degree-name | cze | |
| dc.thesis.degree-program | cze | |
| dc.title | Studium procesu plazmochemické depozice vrstev SiO2 na křemíkových deskách | cze |
| dc.title.alternative | A Study of plasma enhaced chemical vapor deposition of SiO2 layers on silicon wafers | cze |
| dc.type | diplomová práce | cze |
| dspace.entity.type | Publication |