Cyklické silylselenidy jako prekurzory pro depozice atomárních vrstev

Abstract

V rámci této bakalářské práce byla vypracována literární rešerše historie, využití a představení prekurzorů selenu pro technologii depozice atomárních vrstev (ALD). V experimentální části byly připraveny tři prekurzory na bázi cyklických silylselenidů, z nichž jeden nebyl v literatuře dosud popsán. Výchozí sloučeninou pro všechny cílové sloučeniny je selenid lithný, připravený in situ z elementárního selenu a triethylborohydridu lithného, který následně reagoval s příslušnými chloralkylsilany. Struktura, čistota, stálost a základní fyzikální vlastnosti připravených molekul byly potvrzeny 1H-, 13C-, 29Si- a 77Se-NMR spektroskopií, GC/MS analýzou a termická stabilita metodami DSC a TG analýz. V závěrečné části je porovnána schopnost tvorby selenových tenkých vrstev u připravených prekurzorů.