Fotocitlivost a selektivní leptání vrstev v systému As-S-Se

Abstract

Předmětem této diplomové práce bylo studium struktury objemových vzorků a tenkých vrstev systému As-S-Se v řezu As4Se3 – As35S65, jejich změn při expozici a s tím spojených změn optických parametrů vrstev. Dalším úkolem bylo nalézt vhodné alkalické leptací lázně pro selektivní leptání tenkých vrstev tohoto systému. Výchozí objemové vzorky byly připraveny přímou syntézou z prvků a z nich byly dále metodou vakuového napařování připraveny tenké vrstvy o složeních As35S65, (As35S65)3(As4Se3)1 (=As40,625S48,75Se10,71), (As35S65)1(As4Se3)1 (=As46,075S32,5Se21,425), (As35S65)1(As4Se3)3 (=As51,61S16,25Se32,13) a As4Se3.