Publikace: Charakterizace vlivu epitaxní Si desky na parametry 1200 V FRD součástek
Diplomová práceNačítá se...
Datum
2025
Autoři
Název časopisu
ISSN časopisu
Název svazku
Nakladatel
Univerzita Pardubice
Abstrakt
Předkládaná diplomová práce se zabývá analýzou vlivu parametrů 2. epitaxní vrstvy (tloušťky a elektrického odporu) na statické elektrické parametry součástek na Si deskách pro vysoké napětí (1200 V) určených pro rychlé spínání (tzv. Fast Recovery Diode, FRD). Cílem práce bylo ověřit, zda změna tloušťky a el. odporu na navržené hodnoty povede ke změnám statických parametrů součástek, případně zvýšení jejich výtěžnosti
Popis
Klíčová slova
FRD součástky, parametry epitaxní vrstvy, elektrické parametry, výtěžnost, FRD components, epitaxial layer parameters, electrical parameters, yield