Digitální knihovna UPCE přechází na novou verzi. Omluvte prosím případné komplikace. / The UPCE Digital Library is migrating to a new version. We apologize for any inconvenience.

Publikace:
Comparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applications

ČlánekOmezený přístuppeer-reviewedpostprint
Zobrazit minimální záznam
dc.contributor.authorPálka, Karelcze
dc.contributor.authorJančálek, Jiřícze
dc.contributor.authorŠlang, Stanislavcze
dc.contributor.authorGrinco, Marinacze
dc.contributor.authorVlček, Miroslavcze
dc.date.accessioned2020-03-19T12:59:04Z
dc.date.available2020-03-19T12:59:04Z
dc.date.issued2019eng
dc.description.abstractPresented work compares optical and chemical properties of As30S70, As35S65 and As40S60 amorphous chalcogenide thin films deposited by thermal evaporation and by spin-coating. Structural and compositional differences given by the chosen deposition technique and post deposition treatment were revealed by Raman spectroscopy and EDS. Applicability of studied thin films in electron beam lithography was investigated using both monoamine and diamine based developers. Thermally evaporated thin films exhibited negative etching contrary to the spin-coated films which showed positive etching. Studied thin films proved to be suitable positive and negative photoresists for both grey-scale and step-like lithography.eng
dc.description.abstract-translatedV práci jsou porovnávány optické a chemické vlastnosti tenkých amorfních vrstev As30S70, As35S65 a As40S60 připravených metodami vakuového napařování a spin-coatingem. Strukturní a kompoziční rozdíly způsobené zvolenou depoziční technikou a podepozičními procesy byly zkoumány metodami Ramanovy spektroskopie a EDS. Použitelnost studovaných tenkých vrstevpro elektronovou litografii byla studována pomocí mono- a diaminových leptacích roztoků. Vakuově napařené tenké vrstvy vykazovaly negativní typ leptání a naopak spin-coatingem deponované tenké vrstvy pak leptání pozitivní. Studované tenké vrstvy se ukázaly jako vhodné pozitivní a negativní fotorezisty pro grey-scale a stel-like litografii.cze
dc.formatp. 7-14eng
dc.identifier.doi10.1016/j.jnoncrysol.2018.12.012eng
dc.identifier.issn0022-3093eng
dc.identifier.obd39883357eng
dc.identifier.urihttps://hdl.handle.net/10195/74978
dc.identifier.wos000459357800002eng
dc.language.isoengeng
dc.peerreviewedyeseng
dc.publicationstatuspostprinteng
dc.publisherElsevier Science BVeng
dc.relation.ispartofJournal of Non-Crystalline Solids, volume 508, issue: Marcheng
dc.relation.publisherversionhttps://www.sciencedirect.com/science/article/pii/S0022309319300109?via%3Dihubeng
dc.rightsText článku ve verzi postprint bude přístupný od 28.01.2021.eng
dc.subjectdissolutioneng
dc.subjectglasseseng
dc.subjectthicknesseng
dc.subjectrozpouštěnícze
dc.subjectsklacze
dc.subjecttloušťkacze
dc.titleComparison of optical and chemical properties of thermally evaporated and spin-coated chalcogenide As-S thin films targeting electron beam lithography applicationseng
dc.title.alternativeSrovnání optických a chemických vlastností napařených a spin-coatingem deponovaných tenkých vrstev As-S s cílením na aplikace elektronové litografiecze
dc.typeArticleeng
dspace.entity.typePublication

Soubory

Původní svazek

Nyní se zobrazuje 1 - 1 z 1
Náhled
Název:
As-S_ev-sc_TF_paper_revised_manuscript.pdf
Velikost:
1.41 MB
Formát:
Adobe Portable Document Format
Popis:
As-S_ev-sc_TF_paper_revised_manuscript.pdf (1.41 MB)

Kolekce

Publikační činnost akademických pracovníků UPCE / UPCE Research Outputs
Publikační činnost akademických pracovníků FChT / FChT Research Outputs