Příprava a charakterizace tenkých vrstev Si3N4

Bečvář, Kamil

Digitální knihovna UPCE
→
Fakulta chemicko-technologická / Faculty of Chemical Technology
→
Katedra polygrafie a fotofyziky / Department of Graphic Arts and Photophysics
→
Diplomové práce / Theses KPF FCHT (Ing.)
→
Zobrazit záznam

dc.contributor.advisor	Bouška, Marek
dc.contributor.author	Bečvář, Kamil
dc.date.accessioned	2024-07-08T13:54:37Z
dc.date.available	2024-07-08T13:54:37Z
dc.date.issued	2024
dc.date.submitted	2024-04-30
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10195/83463
dc.description.abstract	Diplomová práce se zabývá materiály s fázovou změnou a jejich ochranou pomocí krycí vrstvy. Teoretická část se věnuje samotným materiálům, jejich vlastnostem, fázovým přechodům mezi nimi a jejich využití. Představuje také depoziční techniky pro přípravu tenkých vrstev těchto materiálů. Experimentální část popisuje přípravu a charakterizaci vrstev Si3N4 pro ochranu materiálů s fázovou změnou. Vrstvy byly vytvořeny pomocí magnetronového naprašování a analyzovány spektroskopickou elipsometrií s proměnným úhlem dopadu, infračervenou spektroskopií, skenovací elektronovou mikroskopií s energiově disperzním analyzátorem a mikroskopií atomárních sil.	cze
dc.language.iso	cze
dc.publisher	Univerzita Pardubice	cze
dc.rights	Bez omezení
dc.subject	materiály s fázovou změnou	cze
dc.subject	tenké vrstvy	cze
dc.subject	magnetronové naprašování	cze
dc.subject	Si3N4	cze
dc.subject	phase change materials	eng
dc.subject	thin films	eng
dc.subject	magnetron sputtering	eng
dc.subject	Si3N4	eng
dc.title	Příprava a charakterizace tenkých vrstev Si3N4	cze
dc.title.alternative	Preparation and characterization of Si3N4 thin films	eng
dc.type	diplomová práce	cze
dc.contributor.referee	Střižík, Lukáš
dc.date.accepted	2024-06-04
dc.description.abstract-translated	The master's thesis deals with phase change materials and their protection through a capping layer. The theoretical part deals with the materials themselves, their properties, phases, transition between them, and their use. It also presents deposition techniques for the preparation of thin films of these materials. The experimental part describes the preparation and characterization of Si3N4 layers for the protection of phase change materials. The layers were formed by magnetron sputtering and analyzed by variable angle spectroscopic ellipsometry, infrared spectroscopy, scanning electron microscopy with an energy dispersive spectrometer, and atomic force microscopy.	eng
dc.description.department	Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.thesis.degree-discipline	Polygrafie	cze
dc.thesis.degree-name	Ing.
dc.thesis.degree-grantor	Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.thesis.degree-program	Polygrafie	cze
dc.description.defence	<p>doc. ing. Tomáš Syrový, Ph.D. - Zodpovězte otázky oponenta</p> <p>prof. Ing. Petr Němec, Ph.D. - Jakou techniku byste použil, abyste prokázal, že jsou vzorky amorfní? Myslíte, že Telur se neoxiduje? Jaká byla směrodatná odchylka hodnot drsnosti?</p> <p>doc. Ing. Tomáš Syrový, Ph.D. - Jaké jsou limity rychlosti přechodu těchto fází?</p> <p>ing. Bohumil Jašúrek, Ph.D. - Používají se ke stejnému účelu jiné materiály než Si3N4?</p> <p>prof. Ing. Petr Němec, Ph.D. - Viděl jste trend mez průtokem dusíku a výsledným složením? </p>	cze
dc.identifier.stag	48412
dc.description.grade	Dokončená práce s úspěšnou obhajobou	cze