Využití organokovových sloučenin pro depozice anorganických materiálů

Řičica, Tomáš

Digitální knihovna UPCE
→
Fakulta chemicko-technologická / Faculty of Chemical Technology
→
Disertační práce / Dissertations FCHT (Ph.D.)
→
Zobrazit záznam

dc.contributor.advisor	Jambor, Roman
dc.contributor.author	Řičica, Tomáš
dc.date.accessioned	2019-09-25T05:20:21Z
dc.date.available	2019-09-25T05:20:21Z
dc.date.issued	2019
dc.date.submitted	2019-06-13
dc.identifier	Univerzitní knihovna (archiv). Práce není přístupná.	cze
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10195/74079
dc.description.abstract	Práce byla věnována studiu organokových prekurzorů, které by mohly byt využity především pro depozice tenkých vrstev III-VI materiálů. První část disertační práce se zabývala studiem možného využití známých N → Ga intramolekulárně koordinovaných chalkogenidů jako vhodných SSP pro přípravu tenkých polovodičových vrstev III-VI materiálů. Druhým cílem této práce byla snaha o přípravu monomerních N → M (M = Ga, In) intramolekulárně koordinovaných chalkogenidů a chalkogenolátů prvků 13. skupiny. Pro tento účel byly v této práci využity rozdílné N,C,N- a C,N-chelatující ligandy L1-3 (L1 je {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}-, L2 je {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}- a L3 je {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-).	cze
dc.format	166 s.
dc.language.iso	cze
dc.publisher	Univerzita Pardubice	cze
dc.rights	Práce není přístupná
dc.subject	13. skupina prvků	cze
dc.subject	tenké vrstvy	cze
dc.subject	spin coating	cze
dc.subject	chalkogenidy a chalkogenoláty	cze
dc.subject	redukce	cze
dc.subject	13th group element	eng
dc.subject	thin films	eng
dc.subject	spin coating	eng
dc.subject	chalcogenides and chalcogenolates	eng
dc.subject	reduction	eng
dc.title	Využití organokovových sloučenin pro depozice anorganických materiálů	cze
dc.title.alternative	Organometallic compounds for deposition of inorganic materials	en
dc.type	disertační práce	cze
dc.date.accepted	2019-09-18
dc.description.abstract-translated	The work was focused on the study of organometallic precursors, which could be used for deposition of thin films III-VI materials. The first aim of this dissertation was to investigated known N → Ga intramolecularly coordinated chalcogenides for deposition of semiconductor thin layers of III-VI materials. The second aim of the dissertation was focused on the synthesis of new monomeric N → M (M = Ga, In) intramolecularly coordinated chalcogenides.or chalcogenolates of the 13th group elements. For this reason either N,C,N- or C,N-chelating ligands L1-3 (L1 is {2,6-(Me2NCH2)2C6H3}-, L2 is {2-(Et2NCH2)-4,6-tBu2-C6H2}- a L3 is {2,6-(tBuN=CH)2C6H3}-) were used.	eng
dc.description.department	Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.thesis.degree-discipline	Anorganická chemie	cze
dc.thesis.degree-name	Ph.D.
dc.thesis.degree-grantor	Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.identifier.signature	D40135
dc.thesis.degree-program	Anorganická chemie	cze
dc.description.defence	Dne 18. 9. 2019 Ing. Tomáš Řičica zdárně přednesl obhajobu své disertační práce na téma Organokovové sloučeniny pro depozici anorganických materiálů před komisí. Přítomni byli členové komise dle prezenční listiny, doc. Ing. Milan Erben, Ph.D. se omluvil. Vyčerpávajícím způsobem poté Ing. Tomáš Řičica zodpověděl všechny dotazy oponentů z jejich oponentských posudků a také dotazy kladené přítomnými členy komise při diskusi: prof. RNDr. Jiří Příhoda, CSc. Jaké jsou možnosti využití vámi připravovaných deponovaných vrstev? prof. Ing. Aleš Růžička, Ph.D. Zkoušel jste ze sloučeniny 17 připravit dimer? Zkoušel jste ozařovat vzorek v průběhu měření EPR spektra? doc. Ing. Libor Dostál, Ph.D. Zkoušel jste uvedenou reakci sloučeniny 17 v benzenu? V jakém rozpouštědle probíhala analogická reakce sloučeniny 5? prof. Ing. Jaromír Vinklárek, Dr. Jak si vysvětlujete rozdíly ve vzorcích vrstev vytvořených různými metodami? prof. Ing. Antonín Lyčka, DrSc. Proč jste používal jako rozpouštědlo propylamin? Z porovnání mezi předloženou disertační prací a předloženými publikacemi vyplývá zjevná souvislost mezi těmito dokumenty. Ing. Tomáš Řičica má zásadní podíl na předložených publikacích.	cze
dc.identifier.stag	38624
dc.description.grade	Dokončená práce s úspěšnou obhajobou	cze