dc.contributor.advisor |
Pálka, Karel |
|
dc.contributor.author |
Pavlíčková, Adéla
|
|
dc.date.accessioned |
2018-08-30T07:44:35Z |
|
dc.date.available |
2018-08-30T07:44:35Z |
|
dc.date.issued |
2018 |
|
dc.date.submitted |
2018-07-04 |
|
dc.identifier |
Univerzitní knihovna (studovna) |
cze |
dc.identifier.uri |
https://hdl.handle.net/10195/71765 |
|
dc.description.abstract |
Tato bakalářská práce se zabývá přípravou a studiem vlastností tenkých vrstev chalkogenidového skla o složení As50Se50. Příprava vrstev proběhla metodou vakuového napařování. V této práci je studován vliv temperace a expozice tenkých vrstev halogenovou lampou na strukturu, optické vlastnosti a chemickou odolnost. Dále je studován vliv expozice elektronovým svazkem na chemickou odolnost tenkých vrstev a možnost zápisu struktur do vrstev pomocí elektronové litografie. |
cze |
dc.format |
33 s. |
|
dc.language.iso |
cze |
|
dc.publisher |
Univerzita Pardubice |
cze |
dc.rights |
bez omezení |
cze |
dc.subject |
chalkogenidová skla |
cze |
dc.subject |
vakuové napařování |
cze |
dc.subject |
tenké vrstvy |
cze |
dc.subject |
systém As-Se |
cze |
dc.subject |
chalcogenide glass |
eng |
dc.subject |
vacuum evaporation |
eng |
dc.subject |
thin layers |
eng |
dc.subject |
system As-Se |
eng |
dc.title |
Strukturování vakuově napařených tenkých vrstev systému As-Se |
cze |
dc.title.alternative |
Structuring of thermally evaporated As-Se thin films |
eng |
dc.type |
bakalářská práce |
cze |
dc.date.accepted |
2018-08-20 |
|
dc.description.abstract-translated |
This bachelor thesis deals with deposition of thin layers of As50Se50 chalcogenide glass. The thin layer deposition was done using a method of vacuum thermal evaporation. Prepared thin layers were then used to study the impact of annealing and exposure to halogen lamp on its structure, optical properties, and chemical resistance. Furthermore, the thin layers were exposed to electron beam to test the changes in its chemical resistance and to explore the possibilities of recording structure into the layers employing electron lithography. |
eng |
dc.description.department |
Fakulta chemicko-technologická |
cze |
dc.thesis.degree-discipline |
Chemie a technická chemie |
cze |
dc.thesis.degree-name |
Bc. |
|
dc.thesis.degree-grantor |
Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická |
cze |
dc.identifier.signature |
D38439 |
|
dc.thesis.degree-program |
Chemie a technická chemie |
cze |
dc.description.defence |
Posluchačka seznámila komisi se svojí bakalářskou prací.
Dále reagovala na připomínky a zodpověděla otázky členů komise:
Diskutujte rychlost rozpouštění.
Lze měnit expoziční podmínky?
Diskutujte zvolené rozpouštědlo použité při studiu chemické odolnosti.
Diskutujte Ramanova spektra studovaných vrstev. |
cze |
dc.identifier.stag |
35698 |
|
dc.description.grade |
Dokončená práce s úspěšnou obhajobou |
cze |