Přístup k e-verzi:Práce bude přístupná pouze v rámci univerzity od 24.6.2017
Studijní obor:Chemie a technická chemie
Abstrakt:
Práce byla zaměřena na organokovové sloučeniny 13. skupiny s chalkogenidy užívané jako SSP pro depozice tenkých vrstev III ? VI materiálů pomocí metody MOCVD. Hlavní pozornost byla upřena na chemickou strukturu a složení SSP obsahující galium a indium. Byly zkoumány především jejich sublimační a rozkladné teploty, které jsou závislé zejména na navázaných alkyl nebo aryl substituentech. Tyto různé depoziční teploty vedly k ukládání tenkých vrstev s rozdílnými strukturami. Jejichž elektrické vlastnosti byly zkoumány.
