Práce je zaměřená na přípravu a využití porézních elektrod bismutu a antimonu vytvořených vzorem z koloidních krystalů. Pojednává i o dalších způsobech vytvoření kovového filmu na tištěné uhlíkové elektrodě. V experimentální části je popsána příprava porézních, in situ a ex situ filmových elektrod a následné porovnání jejich elektroanalytických vlastností na modelových vzorcích těžkých kovů (Pb, Cd) s využitím square-wave rozpouštěcí voltametrie. Výsledky ukázaly, že porézní vrstva a ex situ film antimonu není vhodný k měření těžkých kovů metodou SWASV. Naopak měření s bismutovými filmy a porézní vrstvou poskytovala minimálně stejné nebo vyšší signály oproti čisté uhlíkové tištěné elektrodě.
