Studium procesu plazmochemické depozice vrstev SiO2 na křemíkových deskách
Diplomová práce Náhled není k dispozici
Datum publikování
2003
Autoři
Vedoucí práce
Název časopisu
Název svazku
Vydavatel
Univerzita Pardubice
Abstrakt
Práce se zabývá studiem procesu plazmochemické depozice vrstev SiO2 na křemíkových deskách. Byly prozkoumány závislosti indexu lomu, rychlosti a rovnoměrnosti depozice vrstvy SiO2 na teplotě, tlaku, příkonu, průtoku O2 a průtoku He do TEOS při depozici. Dále byly prozkoumány závislosti velikosti a znaménka pnutí, účinnosti krytí schodků v tenkovrstvových AlCuSi vodičích 1. úrovně metalizace vrstvou SiO2 a rychlost rozpouštění vrstvy SiO2 v pufrované HF na teplotě a tlaku při depozici.
Rozsah stran
62 s.
ISSN
Trvalý odkaz na tento záznam
Projekt
Zdrojový dokument
Vydavatelská verze
Přístup k e-verzi
Název akce
ISBN
Studijní obor
anorganická a bioanorganická chemie
Studijní program
Signatura tištěné verze
D12353
Umístění tištěné verze
Univerzitní knihovna (sklad)
Přístup k tištěné verzi
Klíčová slova
plazmochemie, křemíkové desky, vrstvy, oxid křemičitý