Příprava a charakterizace tenkých vrstev Al2O3

Karhánek, Milan

Publikace:
Příprava a charakterizace tenkých vrstev Al2O3

Diplomová práceOmezený přístup

dc.contributor.advisor	Němec, Petr
dc.contributor.author	Karhánek, Milan
dc.contributor.referee	Schwarz, Jiří
dc.date.accepted	2016-06-07
dc.date.accessioned	2016-06-09T12:44:26Z
dc.date.available	2016-06-09T12:44:26Z
dc.date.issued	2016
dc.date.submitted	2016-05-13
dc.description.abstract	Tato práce se zabývá přípravou a charakterizací amorfních ultratenkých vrstev oxidu hlinitého (Al2O3) deponovaných pomocí elektronového svazku (EB-PVD). Sleduje topografii, složení a optické vlastnosti připravených tenkých vrstev v závislosti na jejich tloušťce a depozičních podmínkách s cílem nalézt co nejtenčí kontinuální vrstvu Al2O3. Zejména byl sledován vliv rychlosti depozice a prostředí v depoziční komoře (přítomnost či nepřítomnost O2). Povrchová hrubost připravených vrstev Al2O3 byla sledována pomocí AFM (atomic force microscopy). Topografie deponovaných vrstev byla studována skenovací elektronovou mikroskopií. Chemické složení vrstev bylo stanoveno pomocí SEM-EDX (scanning electron microscopy-energy dispersive X-ray spectroscopy). Optické vlastnosti (index lomu, extinkční koeficient), tloušťky a procentuální zastoupení dutin v těchto vrstvách byly určeny analýzou elipsometrických dat. Amorfní charakter připravených vrstev Al2O3 byl potvrzen pomocí XRD (X-ray diffraction).	cze
dc.description.abstract-translated	This work deals with the fabrication and characterization of ultra thin films of amorphous alumina (Al2O3) which were prepared using electron beam deposition (EB-PVD). Topography, composition and optical properties of fabricated thin films were investigated depending on their thickness and deposition conditions aimed to find the thinnest continuous film of Al2O3. The influence of deposition rate under vacuum or background gas environment (O2) was studied. The surface roughness of Al2O3 thin films was investigated by AFM (atomic force microscopy). The topography of deposited layers was studied by scanning electron microscopy. The chemical composition of the films was determined via SEM-EDX (scanning electron microscopy-energy dispersive X-ray spectroscopy). Optical properties (refractive index, extinction coefficient), thicknesses and the percentage of voids in the films were evaluated through the analysis of ellipsometric data. Amorphous character of fabricated Al2O3 films was confirmed by XRD (X-ray diffraction).	eng
dc.description.department	Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.description.grade	Dokončená práce s úspěšnou obhajobou	cze
dc.format	81 s.
dc.format.extent	3789706 bytes
dc.format.mimetype	application/pdf
dc.identifier	Univerzitní knihovna (studovna)
dc.identifier.signature	D34470
dc.identifier.stag	30885
dc.identifier.uri	https://hdl.handle.net/10195/64640
dc.language.iso	cze
dc.publisher	Univerzita Pardubice	cze
dc.rights	pouze v rámci univerzity.	cze
dc.subject	tenké vrstvy	cze
dc.subject	oxid hlinitý	cze
dc.subject	EB-PVD	cze
dc.subject	amorfní vrstvy	cze
dc.subject	thin films	eng
dc.subject	alumina	eng
dc.subject	EB-PVD	eng
dc.subject	amorphous films	eng
dc.thesis.degree-discipline	Polygrafie	cze
dc.thesis.degree-grantor	Univerzita Pardubice. Fakulta chemicko-technologická	cze
dc.thesis.degree-name	Ing.
dc.thesis.degree-program	Polygrafie	cze
dc.title	Příprava a charakterizace tenkých vrstev Al2O3	cze
dc.title.alternative	Preparation and characterization of Al2O3 thin films	eng
dc.type	diplomová práce	cze
dspace.entity.type	Publication